三星2nm工艺细节公布:能效提升8% 良品率不足60%

快科技11月18日消息,据媒体报道,三星电子首次公布2nm工艺量产进展及技术指标:相较3nm制程,新工艺实现性能提升5%、能效优化8%、芯片面积缩减5%。

尽管提升幅度低于业界预测,但标志着GAA(全环绕栅极)晶体管架构在更先进节点的持续演进。

据悉,三星首款采用2nm工艺的SoC为自研Exynos 2600,传闻当前良品率介于50%-60%。该芯片的量产效能将直接验证三星代工技术实力,尤其在高难度10nm以下制程中,良品率突破已成为争夺客户的核心竞争力。

目前,全球晶圆代工市场主要由台积电占据,市场份额70.2%额稳居第一。虽然三星排在第二,但是市场占有率仅为7.3%,相差了接近十倍。

三星已经为晶圆代工业务设定新目标,希望通过提高2nm工艺的良品率以及与利润丰厚的客户建立长期业务关系,在两年内实现盈利,并占据20%的市场份额。

三星2nm工艺细节公布:能效提升8% 良品率不足60%

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