碳化硅超级结MOSFET全球首发 国产功率器件逼近物理极限

瑶芯微联合西电郝跃院士团队发布全球首款碳化硅超级结MOSFET,1200V器件耐压1635V、功率密度提升81%,国产功率芯片逼近物理极限。

鲸云网9月27日消息,据媒体报道,瑶芯微电子联合西安电子科技大学郝跃院士团队、协同晶圆代工厂芯联集成,发布了全球首款碳化硅超级结MOSFET产品。这款1200V级功率器件实现1635V超高耐压,室温和175℃下比导通电阻分别低至1.27和1.5毫欧·平方厘米,常温电流密度较商业化国际顶级水平提升50%、高温提升166%,逼近碳化硅材料一维物理极限,实现了从国产替代到原研创新的跨越。

超级结技术的思路,是在功率器件的主导电通道两侧交替排布P型柱与N型柱,让原本集中的高压电场被这些“承重柱”共同分担、相互抵消,主通道不必收窄就能扛住更高电压。难点在于电荷平衡的“安全区”极窄,多层外延每一层的厚度、掺杂、位置都必须精准,底层偏差会逐层放大,团队形容这是“在微米世界里盖一栋高楼”。传统碳化硅MOSFET多为平面型或沟槽型,超级结被公认为下一代方向,却因工艺精度要求极高而长期停留在实验室,国际巨头英飞凌、博世原本计划要到2027年甚至2031年才实现商业化。

这一突破的价值,落在国产功率芯片的自主节奏上。碳化硅器件高耐压、低损耗、耐高温高频,是新能源汽车、800V数据中心供电、光伏储能、特高压输电与AI服务器电源的关键载体。随着大模型训练把AI机柜功耗推过100kW,英伟达等推动的800V高压直流架构直接引爆算力级SiC模块需求,业内预计未来三年该领域增速超过80%。而中国市场已是全球最大的碳化硅需求地,天岳先进、天科合达在8英寸衬底上加速量产,三安光电、士兰微、比亚迪半导体通过IDM模式打通衬底到模块全链条,800V高压平台的国产模块装车量已占据半壁江山。此前国产半导体的里程碑还有长江存储3D NAND专利战告捷、中石油信创集采禁用美光等节点。

郝跃院士评价,这款1200V碳化硅超级结MOSFET是全球范围内率先完成产品化验证的同类器件。从跟随对标到定义产品,中国碳化硅产业正在全球第三代半导体竞争中抢占先机,后续能否把实验室的“世界首款”稳定转化为规模产能与车规级交付,才是真正考验产业链协同的下一关。

编辑:小昭

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